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緊固件高速局部電鍍工藝介紹
緊固件高速局部電鍍工藝介紹
高速的局部電鍍是運用特殊的設備把不需要電鍍的部位遮蓋起來,并使得鍍液在鍍層表面高速度流動,使用高的電流密度來進行電鍍工藝。
此工藝的特點是鍍速高,只在需要的鍍層部位進行電沉積,從而可有效的提高生產效率和節(jié)約被鍍金屬,但這套設備成本較高。
目前,這種工藝主要用于電子元器件的高速局部鍍貴金屬。
(1)實現高速局部電鍍的條件:
、僖泻线m的設備,要有與不同被鍍零件相適應的電鍍裝置(特別是在連續(xù)局部電鍍時)。這種裝置要對零件非鍍表面絕緣良好,不漏鍍液,鍍液在被鍍面流動均勻,無死角,連續(xù)鍍時,零件傳送運行平穩(wěn)。除此之外,還應有使鍍液高速流動的循環(huán)過濾系統(tǒng)設備,包括過濾泵與流量計等。
②要選用高速電鍍的工藝規(guī)范,為此一般選用主鹽濃度高的鍍液,有時還加入能提高鍍速的添加劑,提高鍍液溫度,同時常采用脈沖電源。當然也可選用常規(guī)電鍍規(guī)范,但鍍速受到限制。
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